别看上次陈宇在外网的那次手笔吓坏了镁国人，但这并没有从根本上改变因特网是被老美控制的事实，尽管陈宇有强大的入侵技术水平，但如果老美直接物理上“拔网线”你也没辙。

    说到底，因特网终究是镁国人控制的网，而不是真正意义上的互联网。

    现在确实因为陈宇此前在外网的出手对老美起到了一定的震慑作用，但也可以肯定的是，老美那边的技术团队现在绝对是在疯狂的修复中。

    现在能具备一定的威慑力，以后可就难说了。

    说来说去还是得摆脱因特网，这才是从根本上解决可能被老美单方面“断网”威胁的办法。

    显而易见，电信网是可以绕开因特网的一系列问题，因为电信网可不受镁国人的控制。

    加上卫星通信可以打破电信网的领土边界管辖的问题，这又是冲出国门，走向世界的关键。

    毕竟，全世界还是有一大票人不爽美帝的，只不过迫于其势不敢表露出来，与之不对付的大有人在，活在其阴影中的也大有人在，有时候明知道自己的通信设备可能被老美监控，但是没办法，你不用就没得用。

    老美的“棱镜门”事件才过去没多长时间。

    如果这个时候能够出现一款替代产品，还能完全规避CIA的监控，那吸引力绝对是杠杆的，就算表面上说绝对不用，私底下肯定会过来悄悄摸的下单。

    这也是星宇科技的产品未来走向国际化的一大重要的卖点。

    却说此刻，方鸿与秦丰的视讯连线商讨展开了半个多小时左右便就此结束，星宇科技目前的开发任务也很繁重，手底下不但有拳头产品STAR系列智能手机的全国产化之路，现在还有新能源车这一块也在发展。

    方鸿与他结束通话之后，顺手便在电脑上打开了行情软件，然后输入了一个代码瞅了眼，其所对应的公司叫“新微半导体”，这家企业是群星系旗下的子公司，也是此前方鸿拟定的20家新上市的子公司之一。

    在方鸿制定的国产半导体全产业链体系中，这家企业负责的便是光刻机这一块的设备厂商，光刻机对于半导体行业的重要性无需多言了，可见其身肩重担，被寄予厚望。

    该公司就在今天正式登陆A股市场，走的是借壳上市的路子，正常IPO肯定是没这么快，新微半导体公司目前都是处于烧钱阶段，没有任何的盈利，也只能走借壳上市的路子。

    此次借壳上市，新微半导体向市场要了105个亿，估值700亿元，在半导体行业板块上来就给到700亿的估值是非常罕见的，此前就没有过。

    而且，眼下板块内超过500亿市值的半导体公司都是只手可数，这在一定程度上也反应了国产半导体的窘境。

    方鸿瞅了眼新微半导体的分时盘面，复牌首日不设涨跌幅限制，盘中股价最高冲到了59元价位，涨幅超+114%，市值规模飙升到了1600亿之巨，直接跃升成为当前半导体板块市值第一股。

    不过这会儿已经回落下来了，目前的股价维持在了40元价位附近震荡，对应的市值规模大约1000亿左右，最终收盘也在40元价位上方结束。

    ……

    到了第二天一早，方鸿起来瞅了瞅早间资讯，看到了一条与光刻机，乃至和新微半导体设备公司有关的新闻。

    ASML公司总裁彼得在媒体上公开声称：华国企业自研光刻机的行为，是在破坏全球芯片产业链……

    “呵呵……”

    方鸿看到这条新闻不禁笑了，自顾自地说道：“看来，多少还是有点急眼了啊，急眼就对了。”

    国产光刻机对标世界最先进水平其实还有很长的一段距离要走的，可是今年上半年以来，大基金的出现让国际上的那些厂商感觉到了“不对味儿”，他们一开始就尝试要渗透、孵化大基金的管理层。

    可他们并没有意识到，这会儿的大基金管理层团队虽然明面上和群星资本没什么关系，但实际上都是方鸿派过去的人，而结果就是他们发现渗透、孵化这一招收效甚微。

    现在大基金的前都在落地到实处，比如这主攻光刻机的新微半导体就拿了不少钱，而且昨天借壳上市又向资本市场要了105个亿，几乎提供了花不完的钱。

    拿了那么多的钱，基本都砸到研发项目里。

    目前新微半导体同时在搞三代光刻机，因为光刻机的研发生产并不需要由低到高、循序渐进，是可以平行研发的，所以新微半导体直接起了三个团队并行研发。

    这三个团队分别攻关第四代ArF光刻机，第五代ArFi光刻机，以及第六代极紫外光EUV光刻机。

    第四代的ArF光刻机与第三代KrF原理一样，但光源升级，采用193nm光源的光刻机，这两种称之为DUV光刻机。

    而第五代ArFi光刻机，采用的也是193nm光源，但这种又与ArF不一样，之前所有的光刻机其介质采用的是空气，但到了ArFi光刻机时，采用的是水。

    光线在经过水时，会有折射，所以虽然ArFi光刻机采用193nm波长光源，经水折射时，等效于134nm波长的光源，所以这种光刻机，叫做浸润式光刻机。

    说起来，曾经业界光刻机技术停止了很多年，尼康、佳能想把光源从193nm升级为165nm，但好多年没成功。

    而抬积电提出来用水作介质，就跳过157nm，变成143nm了。

    尼康、佳能很傲慢，不理抬积电，那时候ASML只是个小厂，也敢于一试，最后就搏出了ASML的未来，研发出了ArFi浸润式光刻机，然后打得尼康、佳能一败涂地，成就了今天的行业地位。

    而第六代EUV光刻机，采用的则是13.5纳米的极紫外线光源了，这种光刻机目前全世界都没有搞出来，ASML也一样，针对的事7纳米制程级别的芯片制造，而当前世界最先进的制程是在14纳米这一阶段。

    可以确定的，整合国内光刻机产业链的新微半导体，其技术水平就是代表了目前国产技术的最高水平，现在是把所有的相关资源都砸在了新微半导体身上，由该公司对光刻机展开全力攻克任务。

    像G线、I线国内都有了，KrF也有了，就是新微半导体突破的。

    目前在攻克的ArF光刻机也已经快要突破了，并且正在全力死磕ArFi光刻机，同时对于极紫外光刻EUV的研究也有团队在展开论证。

    各代的光刻机开发团队并行展开，同时也相互交流。

    现在的新微半导体是要钱有人给钱，要人才方鸿这边到处给他找，而且因为老美对技术、元件等进行了封锁，在很大程度上非但没有击垮，反而因为外部的压力促使内部变得更加团结一致死磕。

    ……